TARIC 3923.10.90.10 — Photomask or wafer compacts: -|consisting of antistatic materials or blended thermoplastics proving special electrostatic discharge (ESD) and outgassing properties, -|having non porous, abrasion resistant or impact resistant surface properties, -|fitted with a specially designed retainer system that protects the photomask or wafers from surface or cosmetic damage and -|with or without a gasket seal, of a kind used in the photolithography or other semiconductor production to house photomasks or wafers

Il codice TARIC 3923109010 si riferisce a contenitori in plastica utilizzati in ambito di fotolitografia e produzione di semiconduttori, specificamente per la conservazione di maschere fotografiche e wafer di silicio. Questo codice viene applicato quando si importano o esportano questi contenitori specializzati, caratterizzati da proprietà antistatiche, resistenti all'usura e dotati di sistemi di protezione per evitare danni alle delicate superfici delle maschere e dei wafer.

Contenitori antistatici per maschere fotografichecontenitori per wafer di siliciocustodie in plastica per semiconduttoricontenitori con sistema di ritenuta specialecontenitori con guarnizione per semiconduttoriscatole di plastica per fotomaskcontenitori di plastica per dispositivi elettronicicustodie protettive per wafer

Gerarchia dei codici

Codice SA (6 cifre)3923.10

Codice NC (8 cifre)3923.10.90

Codice TARIC (10 cifre)3923.10.90.10

Aliquota

6.5%

Codici correlati sotto la voce 3923

Classifica il tuo prodotto in questa posizione tariffaria

FAQ

Quando devo utilizzare il codice TARIC 3923109010?

Devi utilizzare questo codice quando importi o esporti contenitori in plastica progettati specificamente per la conservazione di maschere fotografiche o wafer di silicio destinati alla fotolitografia e alla produzione di semiconduttori, che presentano caratteristiche antistatiche e di protezione avanzate.

Quali caratteristiche devono avere i contenitori per rientrare in questo codice?

I contenitori devono essere realizzati con materiali antistatici o miscelati con termoplastici che garantiscono proprietà di scarica elettrostatica e riduzione dell'emissione di gas, avere superfici non porose e resistenti all'usura e agli urti, e essere dotati di sistemi di ritenuta speciali per proteggere le maschere e i wafer da danni superficiali e cosmetici.