TARIC 3923.10.90.10 — Photomask or wafer compacts: -|consisting of antistatic materials or blended thermoplastics proving special electrostatic discharge (ESD) and outgassing properties, -|having non porous, abrasion resistant or impact resistant surface properties, -|fitted with a specially designed retainer system that protects the photomask or wafers from surface or cosmetic damage and -|with or without a gasket seal, of a kind used in the photolithography or other semiconductor production to house photomasks or wafers

Debe utilizarse cuando se importan compactos o recipientes diseñados específicamente para almacenar y proteger fotomáscaras o obleas de silicio en la industria de semiconductores, que cumplen con las características de antistaticidad, resistencia y protección descritas.

Deben estar hechos de materiales antistáticos o mezclas de termoplásticos con propiedades electrostáticas y de liberación de gases controladas, tener superficies no porosas y resistentes a golpes y abrasiones, y contar con sistemas de retención que protejan las piezas almacenadas de daños superficiales y estéticos.